Impianti chimici con laboratorio (Nuovo Ordinamento D.M. 270)

 

Anno accademico 2018/2019

Codice attività didattica
MFN0293
Docenti
Corso di studio
Laurea Magistrale in Chimica Industriale
Laurea Magistrale in Chimica Industriale
Anno
1° anno
Tipologia
Caratterizzante
Crediti/Valenza
5
SSD attività didattica
ING-IND/25 - impianti chimici
Erogazione
Tradizionale
Lingua
Italiano
Frequenza
Facoltativa
Tipologia esame
Orale
 
 

Risultati dell'apprendimento attesi

Il corso si propone di fornire gli elementi di base della reattoristica negli impianti chimici.

 

Programma

  • Italiano
  • English

Lezioni:

Reattoristica

Richiami di cinetica chimica

Reazioni singole e successive. Schemi di reazione.

Bilanci di materia e di energia in presenza di reazioni chimiche. Riciclo.

Parametri operativi (tempo, pressione, temperatura, alimentazione).

Principali tipologie di reattori. Reattori ideali e reali.

Reattori continui. Richiamo ai sistemi bifasici gas/solido.

Valutazioni produttive ed economiche.

Sicurezza nei Processi Chimici

Analisi del rischio

Gestione del rischio

Prevenzione.

Laboratorio:

Esercitazioni in laboratorio Catlab – Effetto dei parametri di processo (tempo, temperatura, pressione, alimentazione)

Analisi e descrizione di un Impianto Chimico Industriale

Visita all’impianto

Preparazione di una relazione contenente:

Scopo del processo

Descrizione dell’impianto

Gestione e controllo

Aspetti produttivi ed economici

 

 

 

Testi consigliati e bibliografia

F. Cavani “ Lo sviluppo e la gestione dei processi chimici industriali” Clueb- Bologna

 

Note

Non sono previste propedeuticità obbligatorie. La frequenza alle attività di esercitazione e laboratorio interne ai corsi è obbligatoria, a meno di dispensa da parte del docente responsabile e per solidi motivi di carattere didattico (per esempio, forte attinenza dell'esercitazione con l'attività lavorativa di uno studente-lavoratore). Modalità di esame: l'esame prevede una prova scritta cui segue una prova orale.

 
Ultimo aggiornamento: 19/12/2010 11:00
Campusnet Unito
Non cliccare qui!