- Oggetto:
- Oggetto:
Materiali Inorganici Avanzati (Nuovo Ordinamento D.M. 270)
- Oggetto:
Anno accademico 2010/2011
- Codice attività didattica
- MFN0288
- Docenti
- Roberto Rabezzana
Michele R. Chierotti - Corso di studio
- Laurea Magistrale in Chimica Industriale
Laurea Magistrale in Chimica Industriale - Anno
- 1° anno
- Tipologia
- Caratterizzante
- Crediti/Valenza
- 6
- SSD attività didattica
- CHIM/03 - chimica generale e inorganica
- Lingua
- Italiano
- Oggetto:
Sommario insegnamento
- Oggetto:
Obiettivi formativi
il corso si propone di fornire agli studenti una panoramica sui principali composti inorganici non metallici, sulla loro preparazione, caratterizzazione, proprietà e utilizzi in campo tecnologico, con particolare riferimento alla chimica del silicio e alle sue applicazioni in campo fotovoltaico. Parallelamente, il corso si propone di fornire, attraverso le esercitazioni, una introduzione ai metodi sperimentali e teorici utilizzati per lo studio dei meccanismi di reazione che stanno alla base dei processi di deposizione di tali materiali.
- Oggetto:
Programma
4 CFU frontali:
Proprietà chimiche e fisiche del silicio; abbondanza, distribuzione, struttura cristallina e struttura a bande, legami. Produzione del silicio. Purificazione: metodi chimici e metodi fisici. Il silicio per applicazioni fotovoltaiche: silicio monocristallino, policristallino, amorfo. Introduzione al metodo di Chemical Vapour Deposition (CVD) per la preparazione di silicio amorfo. Cenni sulla preparazione di celle solari a base di silicio. Materiali ceramici speciali (allumina, zirconia, titania): preparazioni industriali e applicazioni ingegneristiche, elettriche ed elettroniche (fibre ottiche, sensori, applicazioni in campo biomedico). Materiali ceramici avanzati (nitruri, carburi, siliciuri, boruri): sintesi e applicazioni. Zeoliti: struttura, composizione, preparazione, e caratterizzazione. Introduzione alle metodiche utilizzate nel corso delle esercitazioni.
2 CFU di esercitazioni:
Le esercitazioni di laboratorio riguarderanno lo studio dei meccanismi di reazione che portano alla deposizione di silicio amorfo a partire da opportuni precursori gassosi a base di silicio. Le metodiche utilizzate saranno la spettrometria di massa ad intrappolamento ionico, per lo studio dei processi ionici, e i calcoli ab initio, per l’indagine delle ipersuperfici di energia potenziale delle reazioni studiate, e per determinare dati termochimici riguardo alle specie coinvolte.
Testi consigliati e bibliografia
- Oggetto:
Dispense del docente
- Oggetto:
Note
L'esame finale prevede una prova scritta ed una prova orale
- Registrazione
- Chiusa
- Apertura registrazione
- 01/03/2020 alle ore 00:00
- Chiusura registrazione
- 31/12/2022 alle ore 23:55
- Oggetto: