- Oggetto:
- Oggetto:
Chimica Inorganica Avanzata (Nuovo Ordinamento D.M. 270)
- Oggetto:
Advanced Inorganic Chemistry
- Oggetto:
Anno accademico 2013/2014
- Codice dell'attività didattica
- MFN1363
- Docenti
- Prof. Roberto Rabezzana
Prof. Lorenza Operti
Dott. Paola Antoniotti
Dott. Paola Benzi - Corso di studi
- Laurea Magistrale in Chimica Industriale
Laurea Magistrale in Chimica Industriale - Anno
- 1° anno
- Tipologia
- --- Nuovo Ordinamento ---
- Crediti/Valenza
- 9
- SSD dell'attività didattica
- CHIM/03 - chimica generale e inorganica
- Modalità di erogazione
- Tradizionale
- Lingua di insegnamento
- Italiano
- Modalità di frequenza
- Lezioni frontali facoltative; laboratorio obbligatorio
- Tipologia d'esame
- Scritto ed orale
- Modalità d'esame
- Lesame si svolge, di norma, come segue:
scritto e orale insieme ad una relazione scritta relativa alle esercitazioni informatiche. - Prerequisiti
- Buone basi di fisica, chimica inorganica e chimica fisica (struttura atomica, legame chimico, termodinamica e termochimica, elementi basilari di cristallografia, conoscenza di tecniche spettroscopiche di indagine )
- Oggetto:
Sommario insegnamento
- Oggetto:
Obiettivi formativi
Il corso si propone di fornire agli studenti una panoramica sui principali composti inorganici non metallici, sulla loro preparazione, caratterizzazione, proprietà e utilizzi in campo tecnologico, con particolare riferimento alla chimica del silicio e alle sue applicazioni in campo fotovoltaico. Parallelamente, il corso si propone di fornire, attraverso le esercitazioni, una introduzione ai metodi sperimentali e teorici utilizzati per lo studio dei meccanismi di reazione che stanno alla base dei processi di deposizione di materiali e a metodi innovativi di sintesi di materiali semiconduttori.
- Oggetto:
Programma
Argomento
Ore
Lez.
Ore
Esercitazioni
Ore Laboratorio
Totale Ore di Car. Didattico
Introduzione ai metodi di Physical Vapor Deposition (PVD) e Chemical Vapour Deposition (CVD) per la preparazione di materiali cristallini e amorfi, sottoforma di film o polveri. Descrizione dei principi e della strumentazione delle principali tecniche impiegate in ambito industriale e di ricerca con particolare riferimento alle loro applicazioni tecnologiche, potenzialità e limiti.
Cenni sulla preparazione di celle solari a base di silicio. Trattamenti post deposizione e tecniche di drogaggio. Sintesi mediante radiazioni ionizzanti. Impiego controllato delle radiazioni nella tecnologia dei materiali. Sorgenti di radiazioni. Interazione della radiazione con la materia: elettroni, particelle cariche pesanti, neutroni, radiazioni elettromagnetiche. Usi industriali delle radiazioni.
16
16
Materiali ceramici speciali (allumina, zirconia, titania): preparazioni industriali e applicazioni ingegneristiche, elettriche ed elettroniche (fibre ottiche, sensori, applicazioni in campo biomedico). Materiali ceramici avanzati (nitruri, carburi, siliciuri, boruri): sintesi e applicazioni. Zeoliti: struttura, composizione, preparazione, e caratterizzazione.
20
12
32
Tecniche di spettrometria di massa per lo studio e la caratterizzazione dei solidi.
12
12
Studio di superfici di energia potenziale con tecniche computazionali.
Equazione di Schrodinger. Funzione d'onda determinantale. Equazione di Hartree-Fock.
Metodi del gradiente per lo studio delle superfici di energia potenziale
.Esercitazione in aula informatica sull'uso del programma GAUSSIAN09.
Studio della superficie di energia potenziale: Si+ con SiH4.
Ricerca di punti di minimo relativi alla reazione Si+ con SiH4.
Ricerca dei punti di sella del primo ordine relativi alla reazione Si+ con SiH4.
Caratterizzazione dei punti critici individuati, mediante il calcolo analitico dell'Hessiana.
24
24
TOTALE ORE
Testi consigliati e bibliografia
- Oggetto:
Il materiale didattico presentato a lezione è disponibile sotto forma di dispense dei docenti scaricabili dal sito del corso o fornite direttamente dai docenti.
- Oggetto:
