Materiali Inorganici Avanzati (Nuovo Ordinamento D.M. 270)

Oggetto:

Materiali Inorganici Avanzati (Nuovo Ordinamento D.M. 270)

Oggetto:

Anno accademico 2009/2010

Codice dell'attività didattica

MFN0288

Docenti

Dott. Paola Antoniotti
Dott. Roberto Rabezzana

Corso di studi

Laurea Magistrale in Chimica Industriale
Laurea Magistrale in Chimica Industriale

Anno

1° anno

Tipologia

Caratterizzante

Crediti/Valenza

SSD dell'attività didattica

CHIM/03 - chimica generale e inorganica

Oggetto:

Obiettivi formativi

il corso si propone di fornire agli studenti una panoramica sui principali composti inorganici non metallici, sulla loro preparazione, caratterizzazione, proprietà e utilizzi in campo tecnologico, con particolare riferimento alla chimica del silicio e alle sue applicazioni in campo fotovoltaico. Parallelamente, il corso si propone di fornire, attraverso le esercitazioni, una introduzione ai metodi sperimentali e teorici utilizzati per lo studio dei meccanismi di reazione che stanno alla base dei processi di deposizione di tali materiali.

Oggetto:

Programma

4 CFU frontali:

Proprietà chimiche e fisiche del silicio; abbondanza, distribuzione, struttura cristallina e struttura a bande, legami. Produzione del silicio. Purificazione: metodi chimici e metodi fisici. Il silicio per applicazioni fotovoltaiche: silicio monocristallino, policristallino, amorfo. Introduzione al metodo di Chemical Vapour Deposition (CVD) per la preparazione di silicio amorfo. Cenni sulla preparazione di celle solari a base di silicio. Materiali ceramici speciali (allumina, zirconia, titania): preparazioni industriali e applicazioni ingegneristiche, elettriche ed elettroniche (fibre ottiche, sensori, applicazioni in campo biomedico). Materiali ceramici avanzati (nitruri, carburi, siliciuri, boruri): sintesi e applicazioni. Zeoliti: struttura, composizione, preparazione, e caratterizzazione. Introduzione alle metodiche utilizzate nel corso delle esercitazioni.

2 CFU di esercitazioni:

Le esercitazioni di laboratorio riguarderanno lo studio dei meccanismi di reazione che portano alla deposizione di silicio amorfo a partire da opportuni precursori gassosi a base di silicio. Le metodiche utilizzate saranno la spettrometria di massa ad intrappolamento ionico, per lo studio dei processi ionici, e i calcoli ab initio, per l’indagine delle ipersuperfici di energia potenziale delle reazioni studiate, e per determinare dati termochimici riguardo alle specie coinvolte.

Descrizione